A PEIRS PVD Sputtering 120 kW-os tápegysége egy nagy teljesítményű feszültségátalakító eszköz, amelyet a vékonyréteg-depozíció (sputtering) folyamatához használnak. A sputtering technológia lehetővé teszi az ultra-vékony rétegek leképzését különböző anyagokból, például fémekből, szigetelő anyagokból és félvezetőkből. A PEIRS 120 kW-os tápegysége a következő jellemzőkkel rendelkezik: Kimeneti teljesítmény: 120 kW Bemeneti feszültség: 480 VAC, 3 fázisú Kimeneti feszültség: 0-1200 VDC Kimeneti áramerősség: 0-1000 ADC Teljesítménytényező: 0,97 Befoglaló méret: 1220 mm x 850 mm x 2300mm (magasság). Súly: 1100 kg. Védőfunkciók: rövidzárlat, túlterhelés, túlfeszültség Moduláris felépítésű, amely lehetővé teszi a könnyű karbantartást és a rugalmas bővítést. Ez a tápegység megbízhatóan és hatékonyan működik a sputtering (PVD) folyamathoz használt magas teljesítményű ionforrásokhoz és a nagy felületű céltáblákhoz is. A PEIRS Sputtering rendszer egy ipari célra tervezett, nagyteljesítményű PVD (Physical Vapor Deposition – Fizikai Gőzfázisú Leválasztás) eljárást támogató megoldás, amelyben a 120 kW-os tápegység és az erőátviteli szekrény kulcsszerepet játszik a plazma létrehozásában és fenntartásában. ⚙️ 1. Rendszer fő komponensei PEIRS nagyfeszültségű tápegység (120 kW) • Állandó vagy szabályozható kimeneti teljesítmény • Folyamatos egyenáram biztosítása • Túlfeszültség, túláram és túlmelegedés elleni védelemmel ellátva Erőátviteli szekrény • Kapcsoló- és vezérlőelemeket tartalmaz • Biztosítja az energia szétosztását a PVD rendszer komponensei között • Interfészként szolgál a vákuumkamra és az energiaforrás között ⚡ 2. Technológiai lépések – Folyamatleírás Vákuumkamra evakuálása A munkadarabokat tartalmazó vákuumkamra nyomása 10⁻³ – 10⁻⁶ mbar szintre csökken. Nem gáz (pl. argon) bevezetése A kamrába semleges argongázt vezetnek be, mely a plazma képződéséhez szükséges. Nagyfeszültség bekapcsolása (120 kW-os tápegységgel) A tápegység egyenáramot biztosít a target (katód) és a kamra (anód vagy föld) között. Argon ionizáció és plazmaképzés Az elektromos tér hatására az argonatomok ionizálódnak. Létrejön a plazma, amely lehetővé teszi az argonionok gyorsulását. Porlasztás (Sputtering) A gyorsított argonionok becsapódnak a target felületébe, és atomokat szakítanak ki abból. Atomok kondenzációja a szubsztrátumon A kiszakított atomok a vákuumban eljutnak a szubsztrátumra, és ott vékony rétegként lecsapódnak. ???? A 120 kW-os tápegység szerepe Nagy teljesítményű, szabályozható energiaforrás a plazma stabilitásának fenntartásához Lehetővé teszi a különféle porlasztási sebességek és vastagságok beállítását Segíti a több targetes (multitarget) rendszerek párhuzamos működését Kulcsszerepű a bevonat minőségének (vastagság, keménység, tapadás) szabályozásában ????️ Alkalmazási területek Keménybevonatok: TiN, TiAlN, CrN stb. Dekoratív bevonatok: arany-, króm- és színes rétegek Elektronikai ipar: vékony vezető vagy szigetelő rétegek Optikai bevonatok: tükröződéscsökkentő, fényvisszaverő rétegek